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美國NANOVEA納米劃痕測試儀
飾 美國NANOVEA公司是一家的劃痕測試儀的革新者，生產(chǎn)的劃痕測試儀是目前國際上用在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)備之一，該公司在光學(xué)設(shè)計(jì)、精密機(jī)械和科學(xué)軟件算法方面，擁有長期不斷發(fā)展的技術(shù)，由于這些專門技術(shù)的應(yīng)用，NANOVEA為生產(chǎn)和質(zhì)量控制的研究和發(fā)展提供精密準(zhǔn)確的解決方案。
納米劃痕儀主要用于界定涂層薄膜與基底的結(jié)合強(qiáng)度與薄膜的抗劃痕強(qiáng)度，主要應(yīng)用在：
1. 半導(dǎo)體技術(shù)(鈍化層、鍍金屬、Bond Pads)；
2. 存儲材料(磁盤的保護(hù)層、磁盤基底上的磁性涂層、CD的保護(hù)層)；
3. 光學(xué)組件(頭、光纖、光學(xué)刮擦保護(hù)層)；
4. 金屬蒸鍍層；
5. 防磨損涂層(TiN, TiC, DLC, 切割工具)；
6. 藥理學(xué)(藥片、植入材料、生物組織)；
7. 工程學(xué)(油漆涂料、橡膠、觸摸屏、MEMS)；
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