多弧離子鍍膜機(jī)的電弧蒸發(fā)源適用范圍較廣，既可反離子鍍，又可蒸鍍金屬結(jié)構(gòu)材料、合金材料。且由于離子鍍具備沉積速度快、鍍料適用廣、鍍層附著粘合性良好、膜致密性高等特點(diǎn)，現(xiàn)在其應(yīng)用日益廣泛，在未來(lái)是可能逐漸取代濕式電鍍的存在。目前，在電子、化工、輕工、機(jī)械、國(guó)防、采礦、冶金等諸多行業(yè)領(lǐng)域均有涉及。
所謂多弧離子鍍膜機(jī)就是用多個(gè)電弧蒸發(fā)源為核心的一種離子鍍膜設(shè)備，通常又叫多弧鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等。相較于其他鍍膜工藝，它具備的特點(diǎn)有：
1、機(jī)械整體簡(jiǎn)單、設(shè)備生產(chǎn)效率高、工作周期短、適合大批量的工業(yè)化生產(chǎn)。
2、較大的鍍膜空間。 電弧蒸發(fā)源為固態(tài)，可靈活放置，所以工件在裝卡更換時(shí)更加簡(jiǎn)單，無(wú)需附加加熱器使用。
3、工藝范圍廣。適合在較高真空或較低環(huán)境溫度（200C）下做反應(yīng)鍍、離子鍍。
4、具備優(yōu)異的膜性能。工件的轟擊加熱、清潔和沉積交由離化金屬等離子體轟擊完成，實(shí)現(xiàn)“一弧三用"，且膜層結(jié)構(gòu)致密性高，膜層與鍍件牢固結(jié)合。
多弧離子鍍膜機(jī)的蒸發(fā)源是一種比較的冷陰電弧放電的自蒸發(fā)、自電離式的一種固體型蒸發(fā)源。
相較于傳統(tǒng)的蒸發(fā)源，多弧離子鍍膜機(jī)的電弧蒸發(fā)源的特點(diǎn)明顯：
1、鍍膜膜層致密度高，膜層壽命長(zhǎng)、強(qiáng)度高；
2、作為固體型的電弧蒸發(fā)源，可改變其形狀、大小及位置；
3、運(yùn)行真空范圍大；
4、更高的離子能量；
5、可達(dá)60％-80％的高離化率；
6、高沉積速率，如TiN，可做到100nm/s~1000nm/s的高沉積速率。
多弧離子鍍膜機(jī)
用于金屬、陶瓷、玻璃等材質(zhì)表面鍍制各種硬質(zhì)金屬膜、金屬化合物膜及裝飾膜。具有抽速快、真空穩(wěn)定，裝載量大、鍍膜均勻性好的特點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于手表、眼鏡、資訊產(chǎn)品 模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行業(yè)表面處理，是鍍制TP仿金、TPC、TP淺、TP咖啡色、TP玫瑰、香檳金、千邑色等膜層的理想設(shè)備。本機(jī)不污染環(huán)境，所鍍膜層無(wú)毒，對(duì)人體無(wú)害，是解決水電鍍廠環(huán)境污染問(wèn)題，替代傳統(tǒng)水電鍍金，鍍烙的理想設(shè)備。
多弧離子鍍膜機(jī)技術(shù)指標(biāo)
真空室尺寸:單室,?1000*1000mm2，有效鍍膜空間：?600*600mm2 抽真空時(shí)間：＜15min（室溫空真空室從大氣壓抽到4.0*10-3Pa） 限壓力:3.0×10-4Pa 工作真空度:10~1.0×10-1Pa 偏壓電源：輸出功率30kw，輸出電壓0~1000V，輸出占空比調(diào)節(jié)范圍：0~90% 總功率：70KVA，380~400v/220~240v,50~60HZ。
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