PICOSUN™ P-300系統已經成為高產能ALD制造業(yè)的新標準。擁有熱壁、獨立的前驅體管路和特殊的載氣設計， 確保我們可以生產出具有優(yōu)異的成品率、低顆粒水平和的電學和光學性能的高質量ALD薄膜。高效緊湊的設計使得維護更加方便、快捷， 減少了系統的維護停工期和使用成本。擁有Picoflow™使得在超高深寬比結構上沉積保形性 薄膜更高效， 并已在生產線上得到驗證。
PICOSUN™ P-300S系統代表了的工業(yè)化 ALD工藝。這個系統是為全自動的批量生產而設 計， 并與工業(yè)標準化的真空集群平臺相結合進行 單片操作。 P-300S系統通過SEMI S2/S8認證，可以通過SECS/GEM整合到自動化生產線上， 并能滿足半導體行業(yè)嚴格的清潔要求。
The PICOSUN™ P-300S是IC行業(yè)創(chuàng)新驅動企業(yè)的 ALD系統！
襯底尺寸和類型
? 300mm單片晶圓
? 高深寬比基底（深寬比1:2500）
工藝溫度
? 50 – 500°C
標準工藝
? 批量生產的平均工藝時間小于10秒/循環(huán)*
? Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各種金屬
? 同一批次薄膜不均勻性<1% 1σ
(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**
基片裝載
? 預真空室安裝磁力操作機械手
? 全自動裝載， Picoplatform™ 200或 Picoplatform™ 300真空集群系統
? 通過集群系統進行盒對盒式FOUP裝載
? 氮氣柜裝載
前驅體
? 液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
? 源瓶余量傳感器，提供清洗和裝源服務
? 6根獨立源管線， 最多加載12個前驅體源
所有評論僅代表網友意見，與本站立場無關。